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小型离子溅射仪

简要描述:小型离子溅射仪(Small size ion sputtering instrument)是一种物理气相沉积技术,可用于制备薄膜和表面处理。它采用高能离子轰击靶材表面,将材料溅射出来并沉积在底片上,从而制备出薄膜。

  • 产品型号:
  • 厂商性质:生产厂家
  • 更新日期:2024-05-20
  • 访  问  量:1088
  小型离子溅射仪参数:
 
  1.腔体尺寸:石英玻璃,直径150mm*高度130mm
 
  2.供电规格:AC220V,200w
 
  3.适用靶材:贵金属AU、Pt、Pd合金AU-Pt、AU-Pd 常规金属Cu、W、Ag 、Cr 等
 
  4.样品台可调高度:20~50mm
 
  5.样品台尺寸:直径55mm
 
  6.工作真空度:1~10Pa
 
  7.气体路数:单路
 
  8.气体流量:手动调节
 
  9.控制:触屏控制
 
  10.外形尺寸:260mm*410mm*343mm(宽*深*高)
 
  11.重量:10KG
 
  12.真空泵:VRD-8
 
  小型离子溅射仪简介:
 
  1、人性化设计,仪器操作简单,一键镀膜。
 
  2、仪器小巧,不占空间,适用于实验室、科研院所等。
 
  3、镀膜均匀细密,适用于多种靶材。
 
  4、样品台可以快速调节,方便取放样品。
 
  5、仪器性能可靠,设有多重安全保护机制。

 
  小型离子溅射仪是一种物理气相沉积技术,可用于制备薄膜和表面处理。它采用高能离子轰击靶材表面,将材料溅射出来并沉积在底片上,从而制备出薄膜。相比于传统的溅射技术,小型离子溅射仪具有以下优点:设备小巧、易于操作、比较经济、沉积温度较低、沉积速率高、薄膜质量较好等优点。因此,它已广泛应用于微纳米材料和表面科学等领域。
 
  小型离子溅射仪是一种重要的表面处理设备,它通过将高能离子注入目标材料表面来改变其物理和化学性质。其主要特点包括:
 
  1. 尺寸小巧:通常具有较小的尺寸和体积,可以在较小的实验室中使用,方便实验者们进行科研工作。
 
  2. 高效性能:具有较高的功率密度和离子能量,可以快速地改变目标材料的物理性质和化学性质。
 
  3. 稳定性强:采用先进的控制技术和优质的材料制造,具有良好的稳定性和可靠性。
 
  4. 操作简单:使用方便,操作简单,即使对于新手也可以快速上手。
 
  5. 广泛应用:不仅可以应用于材料科学领域,而且可以应用于生物医学、电子技术、能源领域等各个领域。
 
  在使用小型离子溅射仪时,需要注意一些问题,如真空度、离子束流控制、目标材料的选择和后续处理等问题。只有合理地运用小型离子溅射仪可以达到更好的实验效果和更高的科研成果。
 

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