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全自动离子溅射仪IS150

简要描述:全自动离子溅射仪是一种功能强大的电子设备,经常用于表面分析和薄膜制备。它可以利用离子束轰击样品表面,然后通过检测生成的离子进行分析。

  • 产品型号:
  • 厂商性质:生产厂家
  • 更新日期:2024-05-20
  • 访  问  量:757
  全自动离子溅射仪产品参数:
 
  1.腔体尺寸:石英玻璃,直径150mm*高度130mm
 
  2.供电规格:AC220V,200w
 
  3.适用靶材:贵金属AU、Pt、Pd合金AU-Pt、AU-Pd 常规金属Cu、W、Ag 、Cr 等
 
  4.样品台可调高度:20~50mm
 
  5.样品台尺寸:直径55mm
 
  6.工作真空度:1~10Pa
 
  7.气体路数:单路
 
  8.气体流量:手动调节
 
  9.控制:触屏控制
 
  10.外形尺寸:260mm*410mm*343mm(宽*深*高)
 
  11.重量:10KG
 
  12.真空泵:VRD-8
 
  全自动离子溅射仪产品简介:
 
  1、人性化设计,仪器操作简单,一键镀膜。
 
  2、仪器小巧,不占空间,适用于实验室、科研院所等。
 
  3、镀膜均匀细密,适用于多种靶材。
 
  4、样品台可以快速调节,方便取放样品。
 
  5、仪器性能可靠,设有多重安全保护机制。
全自动离子溅射仪
 
  全自动离子溅射仪是一种功能强大的电子设备,经常用于表面分析和薄膜制备。它可以利用离子束轰击样品表面,然后通过检测生成的离子进行分析。该设备通常具有以下特点:
 
  1.条件控制:全自动离子溅射仪可以精确地控制离子束的能量、角度、荷载和强度等条件。
 
  2.多种离子源:它可以装配多种离子源,包括氧化物、碳化物和金属等。
 
  3.检测器:该设备通常配备专业检测器,可以对样品进行自动分析、控制和处理。
 
  4.系统集成:它可以与其他设备集成,如扫描电镜和光谱仪,以便进行更全面的表面分析。
 
  全自动离子溅射仪的应用非常广泛,包括制备陶瓷、薄膜、半导体和生物医学材料等。此外,它还可以用于表面加工、污染控制和纳米加工等领域。

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