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全封闭显影机

简要描述:全封闭显影机主要用于半导体制造中晶片的显影工艺,性价比高,稳定性好,重复性好,对显影作业有非常理想的效果。设备配有一路显影和一路水、一路气吹功能,并且喷嘴位置可程控移动,实现自动显影和清洗作业。

  • 产品型号:DM200-SE
  • 厂商性质:生产厂家
  • 更新日期:2024-04-11
  • 访  问  量:1668
  全封闭显影机优势
 
  ·全封闭式显影,避免雾气扩散到外部,污染环境。
 
  ·外壳喷塑,耐腐蚀,易清洗。
 
  ·内腔镀特氟龙,光滑,耐腐蚀,易清洗。
 
  ·内置真空过滤器,防止液体吸入真空泵。
 
  ·真空压力可调,压力值实时显示。
 
  ·液体流量可调,回吸可调。
 全封闭显影机
  全封闭显影机参数
 
  支持wafer尺寸:碎片至200mm(8"圆晶)
 
  ·转速分辨率:±1 RPM
 
  ·旋涂速度:20-3000rpm(空载)
 
  ·旋涂加速度:10-10,000rpm/sec(空载)
 
  ·工艺时间设定: 0-3,000sec/step,时间设置精度: 0.1sec
 
  ·该机型适用于标准3路显影机(1路洗衣液,1路纯水,1路氮气)
 
  ·单步工艺及多步工艺可选,内置100组可编辑程序
 
  ·可根据客户需求定制四管路显影机或更大基片的显影机。
 
  设备配有一路显影和一路水、一路气吹功能,并且喷嘴位置可程控移动,实现自动显影和清洗作业。
 
 

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